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| 특허취득
(2002.05.02) |
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| 1.
특허권자 |
율촌화학(주),
한국과학기술연구원 |
| 2.
특허의 신청 및 등록 |
출원일 |
2000년
07월 19일 |
| 취득일 |
2002년
04월 18일 |
| 3.
특허의 명칭 |
전자파차폐용
투광성 도전막 및 그 제조방법 |
| 4.
특허내용 |
고굴절율의
도전성 나노분말을 함유한 도전성 하층박막과 규산질 저반사막의 이중층 구조로 이루어지며, 인체유해파
차단과 반사에 의한 눈피로를 억제하기에 적합한 저항과 장기안정성, 투과율 및 막강도를 가진
투광성 도전막을 개시함 |
| 5.
투자액 (원) |
183,750,000 |
| 6.
예정사업 |
- |
| 7.
예정사업 규모 |
- |
| 8.
특허증빙서 접수일 |
2002년
05월 02일 |
| 9.
기타 |
본
특허 출원이후 경영환경변화등으로 본 건 관련사업은 유보중임. |
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